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              技術(shù)文章

              聚焦離子束電鏡究竟有何不同?

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                隨著納米科技的發(fā)展,納米尺度制造業(yè)發(fā)展迅速,而納米加工就是納米制造業(yè)的核心部分,納米加工的代表性方法就是聚焦離子束。近年來(lái)發(fā)展起來(lái)的聚焦離子束(FIB)技術(shù)利用高強(qiáng)度聚焦離子束對(duì)材料進(jìn)行納米加工,配合聚焦離子束電鏡等高倍數(shù)電子顯微鏡實(shí)時(shí)觀察,成為了納米級(jí)分析、制造的主要方法。目前已廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體集成電路修改、切割和故障分析等。
               
                典型的聚焦離子束電鏡包括液態(tài)金屬離子源及離子引出極、預(yù)聚焦極、聚焦極所用的高壓電源、電對(duì)中、消像散電子透鏡、掃描線圈、二次粒子檢測(cè)器、可移動(dòng)的樣品基座、真空系統(tǒng)、抗振動(dòng)和磁場(chǎng)的裝置、電路控制板和電腦等硬件設(shè)備。外加電場(chǎng)于液態(tài)金屬離子源,可使液態(tài)鎵形成細(xì)小頂端,再加上負(fù)電場(chǎng)牽引頂端的鎵,而導(dǎo)出鎵離子束。在一般工作電壓下,以電透鏡聚焦,經(jīng)過(guò)可變孔徑光闌,決定離子束的大小,再經(jīng)過(guò)二次聚焦以很小的束斑轟擊樣品表面,利用物理碰撞來(lái)達(dá)到切割的目的。
               
                聚焦離子束電鏡主要是利用二次電子信號(hào)成像來(lái)觀察樣品的表面形態(tài),可用于顯微結(jié)構(gòu)的分析和納米尺寸的研究。電鏡具有景深大,圖象富有立體感等特點(diǎn),其景深較光學(xué)顯微鏡大幾百倍,比透射電鏡大幾十倍,且分辨率較高,可放大十幾倍到幾十萬(wàn)倍。與能譜儀(EDX)組合可廣泛用于材料、冶金、礦物、生物學(xué)等領(lǐng)域。

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